縦型スパッタ成膜装置

プレーナーカソードを備えた縦型スパッタ成膜装置です。
長尺物や立体物、処理数量の多い試料に対して均一性の高い成膜が行えます。
プラスチック部品、金属部品への装飾処理に適しています。

• 有効エリア　φ450mm×1200mm　1軸
• バッチ式
• HV仕様 (6.65×10^-4 Pa以下)