斜入射レイアウトのカソードを備えたスパッタ成膜装置です。
プレーナーカソードを備えた縦型スパッタ成膜装置です。
超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。
超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。
